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美高梅线上的运动学理论

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美高梅线上的运动学理论

发布日期:2015-06-08 00:00 来源: 点击:

  美高梅线上运动轨道,磨削轨道,速度,功率,运动的均匀性等一直都是方达研讨的方向,研讨美高梅线上的运动原理,把握运动轨道能够有用的核算出在研磨抛光的过程中所需求的时刻和运动轨道的均匀性,然后研讨出工件表面的效果和功率。当前市场上关于小工件进行平面抛光的机器许多,而且正在逐渐添加。但是大型平板的抛光机还停留在开始期间。

  树立美高梅线上的运动学模型,从抛光轨道、抛光速度方面研讨抛光的运动特性及其对抛光均匀性的影响,得出了组合抛光的参数匹配联系。对抛光的速度特性研讨标明:在不一样时刻的抛光盘上各点的速度是改变的,单周期内速度曲线呈包络线改变,包络线形状与美高梅线上横梁摇摆速度曲线有关;抛光时,越靠近抛光盘边缘的点速度越大,抛光才能越强。对抛光的运动特性研讨标明:抛光盘的运动具有周期性,抛光轨道为类正弦,全部平面内磨削均匀区域呈带状散布,平面中心区域呈现显着的磨削量峰值,沿中线到平面两边边线磨削量递减,并可能在两边方位构成暗带。

  以Preston方程为基础,引入了抛光均匀性的数学评价参数,树立了美高梅线上抛光均匀性剖析的核算机仿真模型,确定了仿真参数,并对单抛光盘和双抛光盘组合抛光两种状况下抛光量的散布进行了仿真,仿真结果标明该模型能够较好的剖析抛光平面抛光量的散布状况与抛光的均匀程度。根据Preston方程,得出了影响抛光质量的关键因素。研讨标明:抛光均匀性首要受抛光盘运动轨道影响,抛光面相对速度对抛光量散布的影响不大。以墙地砖抛光为研讨目标,联系仿真与试验研讨了抛光技术参数对抛光均匀性以及抛光质量的影响,为抛光参数优化提供了有用办法。研讨标明:抛光质量取决于前道工序的抛光质量和本道工序抛光的均匀性;抛光压力添加抛光功率和抛光质量均会添加,但当其添加到必定值时会加剧抛光划痕甚至会将墙地砖压至破碎,抛光质量降低;抛光盘转速首要影响抛光功率,在充沛抛光的条件下对抛光的均匀性影响不大;墙地砖的运送速度、横梁摇摆周期以及抛光距离的合理匹配影响全部平面的抛光均匀性,横梁的摇摆速度曲线关于改进加工面两边的抛光质量有决定性效果,经过对比剖析采用延时梯形速度曲线抛光效果。

  抛光运动的特性和抛光参数对工件表面质量影响很大,这些参数直接影响着抛光轨道和运动的均匀性,所以经过刚刚的核算和试验,这些抛光参数是研讨美高梅线上的一大前进与腾跃。也为进步抛光功率,进步工件表面质量进步了技术支撑。


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